2nm processa nanofolhas TSMC využije, do budoucna se zvažuje CFET

O technologii GAA (Gate All-Around) se mluví nejdéle ve spojitosti se společností Samsung, která její derivát nazvaný MBCFET využívá v 3nm výrobě (původně jej chtěla nasadit už dříve, na 4nm). Tuto myšlenku ale plánují využít i další výrobci a byť ji nazývají odlišně, jde v podstatě o variace na MBCFET, tedy „pásky“, nikoli generické „dráty“, které se objevovaly ve starších prezentacích o GAA.

Víme, že Intel této technologii říká RibbonFET a chce ji uvést do sériové výroby v roce 2024 s processem Intel 20A. Zvažovala ji i TSMC, která potvrdila, že ji nasadí na 2nm processu (poslední oficiální informace ohledně zahájení velkokapacitní výroby se týkaly druhého pololetí 2025 s experimenty od čtvrtého kvartálu 2024). Ta (více-méně) tutéž technologii označuje termínem Nanosheet(s).

TSMC již ale uvažuje io tom, co použít po Nanosheets. Jednou z možností (sama zdůrazňuje, že skutečně možností), je tzv. CFET. Jejím cíle por bylo (za účelem zvýšení denzity tranzistorů) navrstvit polovodiče typu P a polovodiče typu N přímo na sebe. Technolofie CFET je zatím ve fázi vývoje a vice-presidente TSMC Kevin Zhang potvrdil, že jde o jednu z (vice) možností. Pravděpodobně však tu, od které si společnost slibuje nejvíce nebo její implementaci vidí jako nejschůdnější, neboť právě tu si Zhang vybral k prezentaci.

Pokud plány největších výrobců dopadnou, jak si zatím tyto firmy slibují, pak jako první bude (respektive je) Samsung, v roce 2024 bude následovat Intel av roce 2025 TSMC. Nutno však dodat, že Samsung s MBCFET spíše zákazníky ztratil než získal, neboť při kombinaci v posledních letech nízké výtěžnosti zapůsobilo relativně rané nasazení nové nevyzkoušené technologie jako strašák na zákazníky, kteří dali přednost TSMC.


Source: Diit.cz by diit.cz.

*The article has been translated based on the content of Diit.cz by diit.cz. If there is any problem regarding the content, copyright, please leave a report below the article. We will try to process as quickly as possible to protect the rights of the author. Thank you very much!

*We just want readers to access information more quickly and easily with other multilingual content, instead of information only available in a certain language.

*We always respect the copyright of the content of the author and always include the original link of the source article.If the author disagrees, just leave the report below the article, the article will be edited or deleted at the request of the author. Thanks very much! Best regards!